SK 海力士 Tech Note:硅光子与 CPO 如何为 AI 工厂铺就“光之高速公路”
汉阳大学 ERICA 校区半导体融合工程学教授 Younghyun Kim 在 SK 海力士 Tech Note 中解析 AI 工厂的数据瓶颈,指出 AI 半导体竞争力不再只取决于单颗计算芯片的处理速度。铜互连在传输速度与距离提升后出现信号衰减、发热和 repeater 功耗问题,硅光子与共封装光学(CPO)通过波分复用(WDM)在单根光纤中传输多波长光信号,被视为下一代互连方案。
汉阳大学 ERICA 校区半导体融合工程学教授 Younghyun Kim 在 SK 海力士 Tech Note 中解析 AI 工厂的数据瓶颈,指出 AI 半导体竞争力不再只取决于单颗计算芯片的处理速度。铜互连在传输速度与距离提升后出现信号衰减、发热和 repeater 功耗问题,硅光子与共封装光学(CPO)通过波分复用(WDM)在单根光纤中传输多波长光信号,被视为下一代互连方案。
Fujifilm 计划将磁带产能提升至原来的 5 倍,以应对 AI 带来的归档存储需求增长。磁带凭借低成本与离线安全性,在归档场景中仍有不可替代的作用。